志亞科技有限公司提供的產品目錄

設備

  • 超聲波(US)清洗設備
  • 刷子(BRUSH)清洗設備
  • 紫外線(UV) / 臭氧(O3)清洗設備
  • 乾性超聲清波(US DRY)清洗設備
  • PI剝離設備

清潔劑

  • 通用 :
    a. CHEMICLEANER C-709S
    b. SEMICLEAN LGL
    c. SEMICLEAN MG
  • 氧化清洗(OXIDATION RINSING) :
    d. CHEMICLEANER C-760
  • 表面處理(SURFACE TREATMENT) :
    e. CHEMICLEANER C-712
    f. CHEMICLEANER C-715
  • 除去玻璃粉: g. CHEMICLEANER C-712
  • 除去液晶:
    h. CHEMICLEANER C-709C
    i. SEMICLEAN FC-10
    j. SEMICLEAN FC-40
  • PI剝離: k. SEMICLEAN EP-4

清洗目的標題

  1. 進超淨房間的預清洗(PRECLEANING)
    防止塵埃帶進超淨房間
  2. 光刻段(PR)的預前洗
    除去塵埃
    加良玻璃表面的沾濕性
  3. 酸刻(ETCHING)後的清洗
    除去光刻段後殘留的異物
    除去鹼(ALKALI)
  4. PI印刷前的清洗
    除去塵埃
    加良玻璃表面的沾濕性
  5. 摩擦(RUBBING)段後的清洗
    除去塵埃
  6. 封口後的清洗
    除去殘留的液晶
    除去塵埃及玻璃碎片
  7. 切角(CORNER CUTTING)後的清洗
    除去玻璃粉及玻璃碎
  8. COG / TAB 裝配前的清洗
    除去塵埃等異物

其他

PR的剝離
PI 的剝離
除去噴粉(SPACER)

清洗目的詳情

1. 進超淨房間的預清洗(PRECLEANING)

設備 / 清潔劑
刷子(BRUSH)清洗法

  • 純水

  • c.SEMICLEAN MG

  • d.CHEMICLEANER C-760

    • 超聲波(US)清洗

  • a. CHEMICLEANER C-709S

  • c. SEMICLEAN MG

    • 檢查
    B.光學法：檢查塵埃

    2. 塗光刻膠段(PR)的預清洗

    設備 / 清潔劑

    BRUSH刷子清洗法

  • d. CHEMICLEANER C-760

  • c. SEMICLEAN MG


    • 紫外線 (UV) / 臭氧清洗 (O3)
  • 改良沾濕性

  • UV184.9nm 有臭氧 UV2537nm沒有臭氧


    • US超聲波清洗
  • a. CHEMICLEANER C-709S

  • b. SEMICLEAN MG

    • 檢查
    B. 光學法：檢查污漬及塵埃
    C. 摩擦法：檢查玻璃上付著的物質
    D. 官能檢查：檢查沾濕性

    3. 酸刻(ETCHING)後的清洗

    設備 / 洗潔劑
    超聲波(US)清洗 (IN-LINE)
    噴射(JET)清洗 (IN-LINE)
    KOH , NaOH
    超聲波(US)清洗
    KOH , NaOH

    檢查
    B. 光學法：檢查污漬及塵埃
    C. 摩擦法：檢查玻璃上付著的物質

    4. PI印刷前的清洗

    設備 / 清潔劑
    超聲波(US)清洗 (IN-LINE)
    噴射(JET)清洗 (IN-LINE)
    純水, KOH,
    d. CHEMICLEANER C-760
    超聲波(US)清洗
    純水, KOH,
    d. CHEMICLEANER C-760
    檢查
    B. 光學法：檢查污漬及塵埃
    C. 摩擦法：檢查玻璃上付著的物質
    D. 官能檢查：檢查沾濕性

    5. 摩擦後(RUBBING)的清洗

    設備 / 清潔劑
    濕式: 超聲波(US)清洗 (IN-LINE)
    純水
    超聲波(US)清洗 (IN-LINE)
    純水
    乾式 : 超聲波(US)清洗
    不用清洗劑
    檢查
    B. 光學法：檢查污漬及塵埃
    C.摩擦法：檢查玻璃上付著的物質

    6. 封口後的清洗

    在裝配COG\TAB時,此清洗為非常重要的工序。因為玻璃上如有塵埃，便會引致玻璃與IC或TAB之間出現接觸不良:昂貴的材料因而浪費了。

    在清洗時,需要把殘餘的液晶及玻璃粉或玻璃的碎片除去，故此必需管理設備上的(FILTER)過濾蕊及清潔劑中的塵埃量。

    設備
    超聲波(US)清洗
    因著使用的清潔劑而決定設備的構造

    溶劑清洗
    因著使用的清潔劑而決定設備的構造

    清潔劑....

    清洗殘餘液晶的問題上，清洗的籃子(CASSETTE)對清洗的效果影響很大，故此請在籃子(CASSETTE)的設計上多加注意。

    .....

  • 剝離型: 烏龍茶鞣酸(EXTRACT)

    • - 不能完全地清洗殘餘液晶
    - 此清潔劑(烏龍茶)在中國是很便宜
    - 必需配備抽水分離器
    - 液體的管理很簡便`

    .....
  • 乳化型 (Emulsion) : h. CHEMICLEANER C-709C

    • - 在清潔劑內加上溶劑後，便可有效地清洗殘餘的液晶
    - 沒有溶劑時可清洗小型LCD
    - 超聲波對清洗效果的影響較大
    - 此清潔劑便宜
    - 使用溶劑分離器時，溶劑的量必需減少
    - 溶液的濃度管理(PH)簡便
    - 乳化型為本公司推薦產品

    .....

  • 溶解型 (溶劑>水) : i. SEMICLEAN FC-10

    • - 溶解液晶的效果比FC-40差
    - 溶劑內的水份蒸發後會容易著火(fp104oC)
    - 必需管理溶劑的屈折率

    .....

  • 溶解型 (溶劑<水) : j. SEMICLEAN FC-40

    • - 特性為可在短時間內把液晶溶解、現時為最優良及暢銷產品
    - 此溶劑易於沖洗(RINSE)時洗去，故清洗機便宜
    - 必需管理溶劑的傳導度
    - 比FC-10便宜

    (除去玻璃粉) : e. CHEMICLEANER C-712
    - 清洗液晶殘留→沖洗(RINSE) →用C-712除去玻璃粉

    .....

  • 溶劑型 (石油系列) : HENLEL

    • - 容易著火
    - 清洗能力比FC-40弱
    - 生產成本較便宜
    - 不能除去玻璃粉

    .....
  • 溶劑型 (HALOGEN系列)

    • - 如141等
    - 不容易著火
    - 清洗能力比FC-40弱
    - 清洗成本較高
    - 不能除去玻璃粉

    檢查
    B. 光學法：檢查污漬及塵埃
    C. 摩擦法：檢查玻璃上付著的物質

    7. 切角(CORNER CUTTING) 後的清洗

    設備 / 清潔劑
    超聲波清洗
    E. CHEMICLEANER C-712

    檢查
    B. 光學法：檢查污漬及塵埃
    C. 摩擦法：檢查玻璃上付著的物質

    8. COG / TAB裝配前清洗

  • 貼偏光片工序次序的因素決定設備的結構
  • 偏光片粘著後用手抹
  • 電極上如有玻璃粉，用手抹時會常令致ITO斷線
  • 有塵埃易致接觸不良

    • 其他

  • PR的剝離: KOH
  • PI 的剝離: EP-4
  • 除去SPACER: 純水

    • 乾燥

  • SPIN乾燥
  • 溫風乾燥
  • 由溫水中抽出+溫風
  • ALKOHOL浸漬→ALKOHOL蒸氣乾燥
  • ALKOHOL浸漬→FLEON蒸氣
  • AIR KNIFE
    		•